【展品日报】中硅——可用气相法（CVD工艺）批量生产高纯碳化硅粉
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由新之联伊丽斯（上海）展览有限公司主办的 “中国国际先进陶瓷展览会” 将于 2024年3月6-8日 在上海世博展览馆隆重举办。展览内容涵盖先进陶瓷原料、机械设备、部件产品及服务等整条工艺链。展会规模达 45,000 平方米，云集 900+家 中外企业参展，同期会议论坛嘉宾演讲多达 100+ 场次，预计将吸引 65,000 名专业观众到场参观。
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中硅（山东）硅铝新材料有限公司
展位号：
H2馆 E1621
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01
高纯碳化硅粉
高纯
3C相β型，纯度5N
用于高纯碳化硅器件烧结
关 于中硅
中硅（山东）硅铝新材料有限公司经过多年的科研攻关，已经攻克气相法（CVD工艺）批量生产高纯碳化硅粉的技术障碍，生产出的碳化硅微粉，属3C相β型，纯度达到5N；颗粒均匀，原粉粒径主要分布在450-1300nm，形态呈球状，高温可长成大颗粒；硅碳摩尔比近似1：1；因其在高浓度的氩气和氢气环境下生成，颗粒内部无氧。这种粉料是生产高端碳化硅器件的原料，在半导体制造工艺装备中都有广泛应用，如：晶舟、叉臂、吸盘、精密运动平台等芯片生产、封装检测环节中精密碳化硅部件，也是生长碳化硅单晶原料的基础粉。
贵公司参加本次展览将有什么新技术、新产品发布？
中硅（山东）硅铝新材料有限公司经过多年的科研攻关，已经攻克气相法（CVD工艺）批量生产高纯碳化硅粉的技术障碍，生产出的碳化硅微粉，属3C相β型，纯度达到5N；颗粒均匀，原粉粒径主要分布在450-1300nm，形态呈球状，高温可长成大颗粒；硅碳摩尔比近似1：1；因其在高浓度的氩气和氢气环境下生成，颗粒内部无氧。这种粉料是生产高端碳化硅器件的原料，在半导体制造工艺装备中都有广泛应用，如：晶舟、叉臂、吸盘、精密运动平台等芯片生产、封装检测环节中精密碳化硅部件，也是生长碳化硅单晶原料的基础粉。
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