CVD领域划时代突破：告别低效盲烧，从高温可视化开始！院士团队都在用！

1

1

1

1

一分钟了解STS1200多功能高温热台

科研人员在从事低维材料生长实验时常常遇到工艺无法重复的“玄学问题”。材料生长过程涉及合成温度、气体流速、样品剂量等诸多工艺条件，由于使用传统合成设备只能开展盲烧且升降温速度缓慢，导致生长工艺摸索困难科研进展缓慢。为解决低维材料合成痛点，基元科技自主研发可视化CVD设备- 多功能热台Micro-STS1200 。

Micro-STS1200利用光学成像和拉曼光谱技术，实时原位提供材料生长过程的 影像 和 光谱 信息，为科研人员理解材料生长机理、摸索合成工艺提供了宝贵的信息。Micro-STS1200可视化CVD设备升降温速度可达100℃/min，大幅提升材料合成效率。科研人员可以利用Micro-STS1200直接观察生长过程中材料形态变化，同时光谱学能够提供材料光学、结构、相变等更多细节性质信息，更好地理解生长机理和物化演化规律。Micro-STS1200能够更高效地进行科学实验，并加快材料的研究进程。

√ Micro-STS1200使用效果如何?

√ Micro-STS1200有哪些使用客户？

北京石墨烯研究院刘忠范院士课题组、北京大学张锦院士课题组、北京科技大学张跃院士课题组、复旦大学刘云圻院士课题组以及中国科学技术大学、北京理工大学、湖南大学、南京大学、兰州大学、深圳大学、韩国成均馆大学、美国纽约州立布法罗大学等国内外知名高校。

√ 小体积、大温区

Micro-STS1200双温区热台尺寸220x80x50mm，热场尺寸80x10x10mm，既可满足科研级物料需求，又可以节省空间，方便多台集成，可放置在 手套箱 等洁净环境使用。

√ 光学成像+光谱采集

Micro-STS1200可与 光学显微镜 、 拉曼光谱仪 等仪器耦合，实时获得影像和谱学信息，放大倍数最高500倍，便于深刻理解材料制备机理。

√ 高温送料操作

Micro-STS1200原位送料装置，高温条件实现退火和淬火。

√ 高效率、高精度

Micro-STS1200升降温速率最高可达100℃/min，大幅提高科研效率，每天10次试验很轻松。

Micro-STS1200控温精度 ± 0.1℃。

√ 多气氛和真空环境

Micro-STS1200可提供惰性和氧化等多气氛环境以及真空环境（10Pa)。

√ 安全、低能耗

Micro-STS1200配合主动制冷循环系统，设备表面温度＜40℃，有效保护科研人员和光学物镜；适配电压220V，双温区设备额定功率仅0.8kW，节能环保。

√ 售后无忧

Micro-STS1200设备轻便，方便邮寄，快速解决售后问题。

基于设备首次观察MoS₂原位生长过程：

      1. 发现两种不同的生长模式；

      2. 基于原位生长结果讨论MoS₂二维单晶生长机理；

      3. 分析原位生长图像，获得MoS₂二维单晶有效生长时间。

  论文：https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsaelm.0c00231