在
OER
过程中，操纵活性物种和提高含硫催化剂的结构稳定性仍然是一个巨大的挑战。
近日，
兰州大学席聘贤教授
构建了
NiO/NiS
2
和
Fe-NiO/NiS
2
作为催化剂模型来研究
Fe
掺杂的影响。正如所料，
Fe-NiO/NiS
2
在
10 mA·cm
-2
下表现出
270 mV
的低过电位。
本文要点
要点
1.
研究发现，
Fe
掺杂后，羟基在材料表面的聚集，可以在较低的
OER
电位下促进高活性
NiOOH
的形成。
要点2
.
研究人员研究了
M-S
键的腐蚀程度，并比较了不同位置的
M-S
键与
Fe
的稳定性变化。有趣的是，与硫结合的铁作为牺牲剂可以减轻部分
Ni-S
键的氧化腐蚀，从而赋予
Fe-NiO/NiS
2
长期的耐久性。
这项工作将激励人们更多地关注解决含硫材料的腐蚀问题。
Nan Zhang, et al, Surface Activation and Ni-S Stabilization in NiO/NiS
2
for Efficient Oxygen Evolution Reaction, Angew. Chem. Int. Ed. 2022
DOI: 10.1002/anie.202207217
https://doi.org/10.1002/anie.202207217
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原位XPS、原位XRD、原位Raman、原位FTIR
