佳能发售新一代i线步进式光刻机：提升巨大
时间：2023-04-10
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佳能发售新一代i线步进式光刻机：提升巨大
半导体工艺与设备
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半导体工艺与设备
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1、半导体工艺研究、梳理和探讨。 2、半导体设备应用、研发和进展。 3、建华高科半导体设备推广，包括：曝光机、探针台、匀胶机和切片机。 4、四十五所半导体设备推广，包括：湿化学设备、先进封装设备、电子元器件生产设备等。
收录于合集
今天，佳能正式官宣，发布了最新的i线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米）高解像力与50 x 50mm大视场曝光，该产品可用于全画幅CMOS、头戴显示器等小型显示设备的曝光工序、高对比度微型OLED显示器制造等领域。
p>所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯，和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。
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