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Nano-Micro Lett.:刻蚀诱导的NiMoO4表面重构用于析氧反应

时间:2023-02-16 来源: 浏览:

Nano-Micro Lett.:刻蚀诱导的NiMoO4表面重构用于析氧反应

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然而,缓慢的阳极析氧反应(OER)是电解水技术的主要瓶颈,因为OER具有较大的过电位和关系到多电子过程的缓慢反应动力学。因此,提高催化剂的催化活性,改善催化剂的反应动力学是迫切需要的。
基于此, 兰州大学夏宝瑞和高大强(共同通讯)等人 利用一种双阳离子刻蚀策略来调控NiMoO 4 的电子结构,其中制备的NiMoO 4 纳米棒经H 2 O 2 刻蚀后(NMO),其表面具有大量的阳离子缺陷和晶格畸变,实现了高效的OER。
用三电极体系在1 M KOH电解液中测试了催化剂的OER性能。Ni 2+ 氧化为Ni 3+ 发生在1.35~1.55 V的电位范围内,NMO在10 mA cm -2 时表现出360 mV的高过电位,而NMO-30M(刻蚀时间30分钟)和NMO-50M(刻蚀时间50分钟)的过电位则分别降低到260和323 mV。结果表明,刻蚀后催化剂的催化性能提高。
此外,通过极化曲线得到了催化剂的Tafel斜率以反映它们的OER动力学。NMO-30M的Tafel斜率约为85.7 mV dec -1 ,远小于NMO(137.2 mV dec -1 )和NMO-50M(103.4 mV dec -1 ),表明NMO-30M具有最快的OER动力学。
外,催化剂的稳定性对其实际应用具有重要意义,本文通过循环测试评估了 NMO-30M的稳定性。NMO-30M在10 mA cm -2 的电流密度下的过电位在循环测试后仅变化约5 mV,并且NMO-30M的电流密度在1.6 V vs.RHE的测试电压下保持162小时不变,说明催化剂在电化学过程中表现出优异的稳定性。
整个OER过程可以概括为四个基本反应步骤, 其中 * OOH到 * O的步骤是 NMO-V NiMo 的速率决定步骤(RDS),其能垒为2.07 eV,比NMO(2.83 eV)低。 理论计算得出刻蚀后的催化剂的过电位为0.84 V,小于NMO(1.15 V)。因此,RDS的降低有利于OER性能的改善。
此外,引入双阳离子缺陷后,Ni d和O p的能带中心的能量差减小到1.690 eV,这意味着NMO-30M中Ni 3d和O 2p共价性提高,导致OER过程的电位降低。
为了研究NMO和NMO-30M的重构机理,利用了原位电化学-拉曼耦合系统。当NMO上的偏压逐渐增加时,所有可检测的波段都归因于Mo-O振动,而NMO-30M在473和553 cm -1 处出现了两个微弱的带,这是由E g (Ni 3+ -O)弯曲振动模式和A 1g (Ni 3+ -O)拉伸振动模式造成的,表明NiOOH的形成。
结合X射线光电子能谱的结果,证明Ni的氧化态上升,蚀刻后NMO-30M中存在更多的Ni 3+ ,并推断出Ni的增加促进了碱性溶液中NiOOH中间体的形成。
此外,当在NMO-30M上增加偏压并逐渐增加时,Mo-O带(385和910 cm -1 )的强度相应减弱,在偏压为1.65 V vs.RHE时完全消失,这是由于重构过程中MoO 4 2- 的溶解。
根据以上分析,可以总结出刻蚀使NMO-30M的表面结构发生变化,在OER过程中发生了重构,包括MoO 4 2- 的快速溶解和NiOOH的快速形成,从而提高了催化剂的整体OER活性。
Etching-Induced Surface Reconstruction of NiMoO 4 for Oxygen Evolution Reaction, Nano-Micro Letters , 2023 , DOI: 10.1007/s40820-022-01011-3.
https://link.springer.com/article/10.1007/s40820-022-01011-3.

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