质子能量歧离的Geant4模拟 质子能量歧离的Geant4模拟

质子能量歧离的Geant4模拟

  • 期刊名字:黑龙江科学
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  • 论文作者:张慧,王振超,关世荣,梅雪松,庞杨,周巍
  • 作者单位:黑龙江省科学院技术物理研究所第三研究室
  • 更新时间:2022-12-10
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论文简介

为了解析能量歧离与入射质子能量、靶材料及厚度的关系,利用Geant4程序模拟100 keV~2 MeV质子垂直入射Be、C、H2O、Al、Cu薄膜的方法.结果给出能量歧离与薄膜厚度、薄膜材料及入射质子能量的关系.得出能量歧离主要发生在入射质子100 ~200 keV能量范围内,且薄膜厚度越大,靶材料面电子密度越大,能量歧离越大;入射质子能量越大,能量歧离越小的结论.

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