氧气等离子体处理对AlGaN肖特基接触的影响 氧气等离子体处理对AlGaN肖特基接触的影响

氧气等离子体处理对AlGaN肖特基接触的影响

  • 期刊名字:功能材料与器件学报
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  • 论文作者:唐广,郝智彪,钱可元,罗毅
  • 作者单位:清华大学深圳研究生院,清华大学电子工程系
  • 更新时间:2023-03-21
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论文简介

研究了不同的干法刻蚀以及氧气等离子体处理条件对 AlGaN表面特性的影响.在合适的条 件下,氧气等离子体处理可以使 AlGaN表面发生氧化, 并使肖特基接触的反向漏电流降低两个数 量级,反向击穿电压也有显著提高.该方法简单易行,可应用于制备高性能的 AlGaN/GaN HEMT 器件.

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