CVD金刚石薄膜金属化及其与金属的焊接研究

论文简介

针对CVD金刚石在微波管中的应用特点,提出一种金刚石膜表面金属化新工艺.该工艺采用Ti/Mo/Ni体系和磁控溅射镀膜方法,与无氧铜焊接获得了良好的接合性能,封接件平均抗拉强度大于113.7 MPa.X射线衍射分析证实:经820℃真空热处理,金刚石与钛膜界面形成Ti8C5和TiO.

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