三氟化氮萃取精馏工艺研究

高纯度的三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,是半导体与LCD产业制造过程中必备的材料.针对NF3气体中CF4杂质采用常规方法难以分离的特点,提出一种新的纯化工艺--低温萃取精馏纯化法,对低温萃取精馏生产高纯NF3过程的工艺流程进行了研究,并采用AspenPlus在广泛操作条件下对精馏过程进行了精馏模拟计算.通过工艺试验,找到适合于本物系的精馏运行参数,优化了生产流程,稳定了工艺系统运行,三氟化氮纯度达到了99.999%以上,产品中的CF4杂质含量低于1×10-6(V/V).