Rh/SiO2和Rh/NaY催化剂上合成气反应的高压原位红外光谱研究
- 期刊名字:化学学报
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- 论文作者:孙科强,徐柏庆,朱起明,翁维正,万惠霖
- 作者单位:清华大学化学系,厦门大学
- 更新时间:2022-09-26
- 下载次数:次
论文简介
采用高压原位FT-IR技术,对比研究了CO加H2反应条件下Rh/SiO2和Rh/NaY催化剂表面反应中间物种.在Rh/SiO2表面上,无论在常压还是在1.0 MPa合成气中,只观察到线式和桥式吸附CO.而在常压合成气中,Rh/NaY上不仅存在上述CO吸附物种,而且还有孪生型的Rh(I)(CO)2和少量Rh6(CO)16;当合成气压力升至1.0 MPa后,Rh(I)(CO)2迅速转化成Rh6(CO)16和在2042cm-1产生吸收的单核羰基Rh物种,与此同时催化剂表面还生成了单齿和双齿乙酸根物种;这些在高压下生成的物种在合成气压力重新降回到常压时依然稳定存在.研究Rh/NaY上合成气反应表面物种与H2的反应行为表明单齿乙酸根很可能是反应的活性中间物.这些结果说明Rh/NaY催化剂在高压合成气中的重构是诱发选择生成乙酸反应的基础.
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