半导体异质结界面处Sb/As交换反应研究 半导体异质结界面处Sb/As交换反应研究

半导体异质结界面处Sb/As交换反应研究

  • 期刊名字:稀有金属材料与工程
  • 文件大小:
  • 论文作者:邱永鑫,李美成,熊敏,张宝顺,刘国军,赵连城
  • 作者单位:哈尔滨工业大学,长春理工大学
  • 更新时间:2023-03-25
  • 下载次数:
论文简介

利用分子束外延(MBE)技术,在GaAs衬底上生长了高质量的GaAs/GaAsSb超晶格,并通过高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对Sb/As交换反应进行研究.实验表明,随着衬底温度的升高,Sb解吸附速度增加,在Sb束流作用下形成的GaAs/GaAsSb超晶格中的Sb含量下降.而Sb束流大小和暴露在Sb束流中的时间对GaAs/GaAsSb超晶格中的Sb含量影响很小.这说明Sb与GaAs中的As原子的交换反应仅发生在GaAs表层,Sb原子在GaAs中的扩散距离很短.

论文截图
版权:如无特殊注明,文章转载自网络,侵权请联系cnmhg168#163.com删除!文件均为网友上传,仅供研究和学习使用,务必24小时内删除。