Al-Si合金RIE参数选择
- 期刊名字:半导体技术
- 文件大小:
- 论文作者:李希有,周卫,张伟,仲涛,刘志弘
- 作者单位:清华大学微电子学研究所
- 更新时间:2022-10-22
- 下载次数:次
论文简介
采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、对PR选择比为评价指标.试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素.通过进一步优化工艺,制定出了均匀性小于3%,刻蚀速率高于300nm/min,对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺.
论文截图
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