OEIC台面腐蚀工艺研究 OEIC台面腐蚀工艺研究

OEIC台面腐蚀工艺研究

  • 期刊名字:固体电子学研究与进展
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  • 论文作者:范超,栗锐,陈堂胜,杨立杰,冯欧,冯忠,陈辰,焦世龙,叶玉堂
  • 作者单位:电子科技大学光电信息学院,单片集成电路与模块国家级重点实验室,南京电子器件研究所
  • 更新时间:2022-11-20
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论文简介

深入研究了牺牲层腐蚀机制,摸索出完整的台面自停止工艺并实际应用于OEIC器件制作.实验中发现了侧蚀、台面变形以及表面清洁等问题,从实验现象着手分析,并由此对工艺进行了改进,采用了新的腐蚀剂和工艺步骤.改进后的工艺解决了上述问题,可以完全满足后续工艺的要求.

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