多孔硅与聚乙烯咔唑复合光电性能研究

用旋涂法实现了多孔硅与聚乙烯咔唑(PVK)的复合,研究了多孔硅/PVK复合体系的光学性能和电学性能.PL谱的测试发现,复合体系的PL同时具有多孔硅和PVK的峰.此外,在485nm的位置出现了一个新峰,讨论了这个峰的来源.Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,多孔硅/PVK异质结与多孔硅相比,Ⅰ-Ⅴ曲线呈现更好的整流特性,讨论了其原因.