银汞修复牙的腐蚀电位变化

目的:采用在口腔内直接测定腐蚀电位值,在30d内对汞合金充填体进行电位变化测定.测定使用微电极探针、Ag/AgCl为参比电极、高阻抗电位计.方法:选择不同时间作汞合金填充的患者(2个月、1年、2年、3年、5年)为研究对象,不改变其饮食和卫生习惯.经过连续监测,填充体腐蚀电位都发生变化.结果:腐蚀电位的平均变化在30mV,其中最大变化达到105mv.结论:随着填充体使用的时间增加,腐蚀电位的变化有增大的趋势.