InP基RTD特性的数值模拟研究 InP基RTD特性的数值模拟研究

InP基RTD特性的数值模拟研究

  • 期刊名字:固体电子学研究与进展
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  • 论文作者:王伟,孙浩,孙晓玮,徐安怀,齐鸣
  • 作者单位:中国科学院,中国科学院研究生院,信息功能材料国家重点实验室
  • 更新时间:2022-12-10
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论文简介

采用基于非平衡格林函数法(Non-equilibrium Green's function,NEGF)量子输运模拟器WinGreen对InP基共振隧穿二极管(RTD)的输运特性进行了计算模拟,分析了Ga0.47In0.53As/AlAs以及富In组份势阱双势垒结构几何参数、散射参数、发射区和集电区掺杂浓度以及隔离层厚度对InP基RTD器件Ⅰ-Ⅴ特性的影响.模拟结果表明,采用富In组份的势阱有利于降低峰值电压,提高发射区掺杂浓度有利于增大峰值电流密度,而散射则会导致谷值电流增大,影响其负阻特性.

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