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新型等离子体磁控溅射技术

期刊名字：金属热处理
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论文作者：于翔，刘阳，王成彪，于德洋
作者单位：中国地质大学,北京实力源科技有限责任公司
更新时间：2023-03-21
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论文简介

介绍了等离子体磁控溅射原理和矩形磁控靶,探讨了几种新型等离子体非平衡磁控溅射技术,其中包括脉冲磁控溅射和离子辅助溅射,重点分析了工艺要点,并就存在的问题提出了解决思路.

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非平衡磁控溅射中频磁控溅射离子辅助溅射