金属连线光刻技术

论文简介

介绍了一种细线条金属连线光刻技术.在溅射铝后,生长一薄层氮化硅薄膜作为减反层,利用氮化硅薄膜的光刻条件,涂覆薄胶可以保证刻出细线条,腐蚀薄层氮化硅保证线宽,同时在腐蚀铝过程中用氮化硅作掩蔽解决了薄胶问题.并在亚微米的抗辐射加固电路中成功应用.

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