GaN基和LiZnAs基稀磁半导体的研究进展
- 期刊名字:材料导报
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- 论文作者:王爱玲,毋志民,王聪,赵若禺
- 作者单位:重庆师范大学物理与电子工程学院,重庆市光电功能材料重点实验室
- 更新时间:2023-03-25
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论文简介
综述了稀磁半导体及其研究进展,阐述了提高居里温度的方法.从晶体结构、材料的研究现状和待解决的问题几个方面详述了以GaN为代表的传统的Ⅲ-Ⅴ族基和LiZnAs为代表的新型Ⅰ-Ⅱ-Ⅴ族基两类稀磁半导体的基本特点,并展望了今后的研究重点及发展方向.
论文截图
下一条:有序纳米半导体量子点的自组织生长
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