首页 > 论文下载

半导体硅片清洗设备研究进展

期刊名字：微处理机
文件大小：
论文作者：林晓杰，刘丽君，王维升
作者单位：中国电子科技集团公司第四十七研究所,沈阳硅基科技有限公司
更新时间：2023-03-24
下载次数：次

会员下载(3点)

VIP会员下载(0点)

游客扫码下载(3点)

论文简介

阐述了半导体硅片清洗的一些重要设备.主要包括湿法化学清洗、兆声波清洗以及机械刷洗设备等常用的设备及配置,同时也介绍了近几年逐渐获得应用的清洗设备方面的技术创新.

论文截图

上一条：PLC在半导体设备改造上的应用

下一条：氮化镓功率半导体器件技术

版权：如无特殊注明，文章转载自网络，侵权请联系cnmhg168#163.com删除！文件均为网友上传，仅供研究和学习使用，务必24小时内删除。

半导体硅片清洗兆声波设备