电解铜箔添加剂研究进展
- 期刊名字:化学研究
- 文件大小:
- 论文作者:李俊,张震
- 作者单位:华南理工大学
- 更新时间:2022-10-06
- 下载次数:次
论文简介
介绍了电解铜箔添加剂的研究现状和进展;指出随着信息产业的不断发展,对电子产品印刷电路板(PCB)制作的要求不断提高,而对关键的电解铜箔技术所用的添加剂的要求也日益苛刻.同时就电解铜箔添加剂的发展趋势进行了展望,以期为今后国内电解铜箔行业的发展提供参考.
论文截图
下一条:食品添加剂的危害在于滥用
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