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CHN薄膜的制备

期刊名字：原子能科学技术
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论文作者：李常明，陈志梅，吴卫东，唐永建
作者单位：中国工程物理研究院
更新时间：2023-01-16
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论文简介

文章简要描述了空心阴极等离子体化学气相沉积(HPCVD)的原理,以及用HPCVD方法制备CHN薄膜的工艺和实验结果.用XPS和AFM分别分析了CHN薄膜中C和N的成分及表面形貌,并得到了一定条件下的薄膜沉积速率.

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空心阴极等离子体化学气相沉积 CHN 薄膜 XPS