铝阳极氧化膜的半导体特性
- 期刊名字:物理化学学报
- 文件大小:
- 论文作者:赵景茂,谷丰,赵旭辉,左禹
- 作者单位:北京化工大学材料科学与工程学院
- 更新时间:2023-03-24
- 下载次数:次
论文简介
采用Mott-Schottky理论结合氧化膜点缺陷模型(PDM)研究了工业纯铝L2阳极氧化膜的半导体性质,分别计算了沸水封闭和重铬酸钾封闭后阳极氧化膜的施主浓度、氧空穴扩散系数及平带电位.结果表明,铝阳极氧化膜封闭前后都具有n型半导体性质,且施主浓度随着电压的升高呈指数递减.使用不同方法封闭的阳极氧化膜的氧空穴扩散系数为(1.12-5.53)×10-14 cm-2·s-1,封闭后阳极氧化膜平带电位降低.
论文截图
上一条:PPF框架在半导体工业中的应用
下一条:金刚石半导体研究进展
版权:如无特殊注明,文章转载自网络,侵权请联系cnmhg168#163.com删除!文件均为网友上传,仅供研究和学习使用,务必24小时内删除。
热门推荐
-
C4烯烃制丙烯催化剂 2023-03-24
-
煤基聚乙醇酸技术进展 2023-03-24
-
生物质能的应用工程 2023-03-24
-
我国甲醇工业现状 2023-03-24
-
JB/T 11699-2013 高处作业吊篮安装、拆卸、使用技术规程 2023-03-24
-
石油化工设备腐蚀与防护参考书十本免费下载,绝版珍藏 2023-03-24
-
四喷嘴水煤浆气化炉工业应用情况简介 2023-03-24
-
Lurgi和ICI低压甲醇合成工艺比较 2023-03-24
-
甲醇制芳烃研究进展 2023-03-24
-
精甲醇及MTO级甲醇精馏工艺技术进展 2023-03-24
