GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

  • 标准类别:[GB] 国家标准
  • 标准大小:
  • 标准编号:GB/T 24575-2009
  • 标准状态:现行
  • 更新时间:2022-06-13
  • 下载次数:
标准简介

本标准修改采用SEMIMF1617-0304《二次离子质谱法测定硅和硅外延衬底表面上钠、铝和钾》。本标准对SEMIMF1617-0304格式进行了相应调整。为了方便比较,在资料性附录B中列出了本标准章条和SEMIMF1617-0304章条对照一览表。并对SEMI16170304条款的修改处用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。本标准与SEMIMF1617-0304相比,主要技术差异如下:---去掉了目的、关键词。---将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分,并将原标准中的精度和偏差部分作为资料性附录A。本标准的附录A 和附录B为资料性附录。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。本标准主要起草人:何友琴、马农农、丁丽。

标准截图
版权:如无特殊注明,文章转载自网络,侵权请联系cnmhg168#163.com删除!文件均为网友上传,仅供研究和学习使用,务必24小时内删除。