GB/T 6621-2009硅片表面平整度测试方法Testing methods for surface flatness of silicon slices

本标准代替GB/T6621-1995《硅抛光片表面平整度测试方法》。本标准与GB/T6621-1995相比,主要变动如下:---将名称修改为硅片表面平整度测试方法;---去掉了目前较少采用的干涉法,只保留了目前常用的电容法;---增加引用标准;---对方法提要、仪器装置、测量程序、计算进行了全面修改;---经实验重新确定了精密度;---在第一章增加本标准适用的试样范围;---在试样一章中说明对所测试样的要求。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准主要起草单位:上海合晶硅材料有限公司。本标准主要起草人:徐新华、严世权、王珍。本标准所替代标准的历次版本发布情况为:---GB/T6621-1986、GB/T6621-1995。