GB/T 11072-2009锑化铟多晶、单晶及切割片Indium antimonide polycrystal,single crystals and as-cut slices GB/T 11072-2009锑化铟多晶、单晶及切割片Indium antimonide polycrystal,single crystals and as-cut slices

GB/T 11072-2009锑化铟多晶、单晶及切割片Indium antimonide polycrystal,single crystals and as-cut slices

  • 标准类别:[GB] 国家标准
  • 标准大小:
  • 标准编号:GB/T 11072-2009
  • 标准状态:现行
  • 更新时间:2022-12-02
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标准简介

本标准代替GB/T11072-1989《锑化铟多晶、单晶及切割片》。本标准与GB/T11072-1989相比,主要有如下变化:---将原标准中直径10mm~50mm 全部改为10mm~200mm;---在原标准的基础上增加了直径>50mm,厚度不小于1200μm,厚度偏差±40μm;---将原标准中位错密度级别1、2、3中直径≥30mm~50mm 全部改为≥30mm~200mm;---在原标准的基础上增加了直径为100mm、150mm、200 mm 的切割片直径、参考面长度及其偏差;---将原标准中的附录A 去掉,增加引用标准GB/T11297;---增加了订货单(或合同)内容一章内容。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位:峨嵋半导体材料厂。本标准主要起草人:王炎、何兰英、张梅。本标准所代替标准的历次版本发布情况为:---GB/T11072-1989。

标准截图
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