GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶 Magnetron sputtering ruthenium target

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶 Magnetron sputtering ruthenium target 2017-09-29发 布 2018-04-01实 施 　 　 　 　 　 中 华 人 民 共 和 国 国 家 质 量 监 督 检 验 检 疫 总 局 噬 ＋ 肴 ： 扩？ ’‘＼中国国家标准化管理委员会认！ J 囔 醴 鬻 GB/T 34649-2017 刖 舀 本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草 。 本标准由中国有色金属工业协会提出 。 本 标 准 由 全 国 有 色 金 属 标 准 化 技 术 委 员 会 （ SAC/TC 243） 归 口 。 本标准负责起草单位：有研亿金新材料有限公司 、 有色金属技术经济研究院 。 本 标 准 起 草 人 ： 罗 俊 锋 、 丁 照 崇 、 李 勇 军 、 向 磊 、 万 小 勇 、 刘 书 芹 、 熊 晓 东 、 王 庄 、 贺 听 、 滕 海 涛 、 高 岩 。